免費(fèi)html網(wǎng)站,互聯(lián)網(wǎng)網(wǎng)站建設(shè)月總結(jié),寵物店網(wǎng)頁設(shè)計(jì)素材,wordpress的目錄結(jié)構(gòu)(一)知識(shí)星球#xff08;星球名#xff1a;芯片制造與封測(cè)技術(shù)社區(qū)#xff0c;星球號(hào)#xff1a;63559049#xff09;里的學(xué)員問#xff1a;干法刻蝕中#xff0c;射頻電源的功率與頻率對(duì)刻蝕結(jié)果都有哪些影響#xff1f;什么是RF的功率與頻率#xff1f;RF功率#xff0…知識(shí)星球星球名芯片制造與封測(cè)技術(shù)社區(qū)星球號(hào)63559049里的學(xué)員問干法刻蝕中射頻電源的功率與頻率對(duì)刻蝕結(jié)果都有哪些影響什么是RF的功率與頻率RF功率RF Power,是指射頻電源提供給等離子體系統(tǒng)的能量大小用于等離子體的產(chǎn)生和穩(wěn)定,通常以瓦特W為單位。RF頻率RF Frequency,是指射頻電場(chǎng)的振蕩頻率通常以赫茲Hz為單位。常用的頻率有13.56MHz2.45GHz27MHz60MHz2MHz等。功率一定時(shí)頻率越高等離子體密度越高離子的能量越低。頻率對(duì)刻蝕的影響1等離子體空間分布的均勻性高頻電場(chǎng)振蕩更快電子在一個(gè)周期內(nèi)被電場(chǎng)加速的時(shí)間更短因此電子能量集中在較窄的范圍內(nèi)分布更均勻。2離子能量的分布低頻RF如2 MHz離子能量分布較寬不集中。高頻RF離子能量更集中。3等離子體的密度高頻RF生成更高密度的等離子體4等離子體中化學(xué)反應(yīng)的主導(dǎo)性高頻RF更多的自由基生成促進(jìn)化學(xué)刻蝕。低頻RF可增強(qiáng)物理刻蝕。5刻蝕的選擇性高頻RF可提高刻蝕的化學(xué)選擇性。低頻RF由于離子轟擊較強(qiáng)會(huì)導(dǎo)致選擇性下降。